IT/전자 포토레지스트 소재 및 OLED응용 기술

저온경화형 및 고해상도 컬러포토레지스트 소재개발 및 이를 적용한 OLED 디스플레이 응용기술 개발에 관한 기술이전으로서 소재의 자립 및 국산화를 지원하고 개발된 소재의 디스플레이 적용을 통한 사업화를 촉진하고자 하는 기술이전임

○ 마이크로디스플레이에 대한 필요성 및 관심이 점차 커지고 있어 각 국가별, 기업별로 이에 대한 관련 연구 및 개발 경쟁이 치열하게 전개되고 있다. 지금까지는 스마트폰이나 태블릿 등의 중소형 디스플레이, TV나 전광판 등 대형 디스플레이 개발을 대기업 중심으로 생산 기술 개발에 주로 치중하고 있다. 따라서 마이크로디스플레이에 요구되는 기술의 조기 확보를 위한 전략 수립이 시급한 상황이다.

○ 마이크로디스플레이는 매우 부피가 작고 가벼워 헤드마운트 디스플레이나 및 증강현실 디스플레이로 가장 적합한 기술로 현재 액정을 이용한 것과 OLED를 이용한 기술이 대표적이다. 액정의 경우 광원 및 광학계가 필요하여 무겁고 부피가 큰 단점이 있다. 따라서 OLED를 이용한 마이크로디스플레이를 개발함으로써 가볍고 부피가 작은 마이크로디스플레이를 제작할 수 있어 헤드마운트 디스플레이나 스마트안경 등에 더 적합할 수 있다.

○ OLED를 마이크로디스플레이에 적용하기 위해서는 불투명한 wafer 상부에 OLED를 제작해야 하므로 상부발광구조를 이루어야 한다. 이 때 상부에 사용되는 전극의 반사로 인해 공진 구조가 만들어지게 되며 생성된 공진 구조에 의해 발광 효율 및 스펙트럼이 크게 변하기 때문에 광학적 최적화를 위한 OLED 소자 구조를 설계하는 기술이 매우 중요하다. 

 ○ OLED 마이크로디스플레이는 CMOS 회로가 형성된 wafer를 이용하기 때문에, CMOS 회로로 구동할 수 있는 OLED 소자 구조의 설계가 필요하다. CMOS회로로 구동할 수 있는 전압의 범위가 제한되기 때문에, 구동 전압 범위 내에서 OLED 소자가 충분한 휘도가 구현될 수 있도록 소자의 광학적 설계뿐만 아니라 전기적 최적화를 위한 OLED 소재 및 소자 구조 설계 기술 또한 매우 중요하다. ○ OLED 마이크로디스플레이에 화소를 구성하는 방법으로 저온경화형 및 고해상도 컬러포토레지스트 소재를 CMOS 회로가 형성된 wafer 기판위에 정확히 얼라인 하게되며 여기에 다양한 공정기술이 요구된다. 또한 OLED구조와 컬러포토레지스트 소재 공정을 수행하기 위하여 고신뢰성을 갖는 박막봉지기술도 개발이 요구된다.