반도체/디스플레이 2022년 디스플레이 건식 레이저 세정 시스템 현황분석
| 다운로드시 차감 포인트 | 10 |
|---|---|
| 출처 | 중소벤처기업부 |
< 목 차 >
1. 개요
2. 산업 및 시장 분석
3. 기술 개발 동향
4. 특허 동향
5. 요소기술 도출
6. 전략제품 기술로드맵 ·
1. 개요 가. 정의 및 필요성 (1) 정의 디스플레이 공정에서 세정 공정은 레이저 클리닝은 오염물질, 파티클을 제거하는 공정을 지칭함 디스플레이는 미세공정을 통해서 생산되기 때문에 아주 작은 먼지라도 패턴 결함, 절연막 불량 등 제품에 치명적인 영향을 미칠 수 있으며, 세정은 디스플레이 제조 과정에서 발생하는 파티클이나 이물질을 제거하여 제품의 품질과 수율을 높이는 역할을 함 레이저 세정은 빔의 조사 형태를 시간 공간적으로 자유롭게 변화시킬 수 있다는 점에서 매우 유연한 수단으로 물리적 세정공정의 대안으로 다양한 레이저를 이용한 여러 가지 세정 공정이 개발되고 있음 [ 반도체·디스플레이 장비 내 디스플레이 건식 레이저 세정 시스템 위치 ] * 자체구성 * 출처: 한국과학기술연구원 복합소재기술연구소, ACM, KLA Tencor, BOYN Instrument, 나노기술연구협의회, 파웰코퍼레이션 Glass가 처음 Fab에 투입되어 진행되는 초기 세정을 비롯해 LTPS(Low-Temperature Polycrystaline Silicon), 증착, 봉지, 모듈 등 디스플레이 제조 공정 전후에는 오염 물질을 제거하기 위한 세정 작업이 진행됨 디스플레이 건식 레이저 세정 시스템7 [ 포토공정 중 진행되는 세정 공정 ] * 출처 : samsung newsroom, 2020 현재 가장 널리 쓰이는 화학적 세정은 환경 부담이 크고, 초음파 세정, 스프레이 세정과 같은 액상 세정 공정은 응용 범위 제약이 따르며, 모재 손상 및 부유 입자 재부착 등의 기술적 문제가 존재함 또한, CO2, 아르곤 미세입자를 이용한 건식 세정은 효과적이지만 장치가 복잡하며 유지비가 비싸다는 문제점이 있음 레이저 세정은 빔의 조사 형태를 시간 공간적으로 자유롭게 변화시킬 수 있다는 점에서 매우 유연한 수단으로 물리적 세정공정의 대안으로 다양한 레이저를 이용한 여러 가지 세정 공정이 개발되고 있음 미세 입자를 제거하기 위해서는 입자의 부착력 보다 높은 충격을 순간적으로 인가해야 하므로, 레이저 세정에는 MW/cm2에서 TW/cm2 수준의 수간 조사도를 지닌 나노초 ~ 펨토초 펄스레이저가 주로 사용
